SAPPHIRE HD 7950 3GB GDDR5 OC with Boost VAPOR-X Review
Share | Tweet |
“แซฟไฟร์ เทคโนโลยี” เป็นบริษัทแห่งแรกที่ประสบความสำเร็จในการนำเทคโนโลยี Vapor Chamber มาใช้เป็นตัวระบายความร้อนให้การ์ดแสดงผลกราฟฟิคในเครื่องพีซี โดยเทคโนโลยี Vapor Chamber นี้ถูกใช้กันอย่างแพร่หลายในอุตสาหกรรมการผลิตยานบินและระบบเซิฟเวอร์ต่างๆเพื่อประสิทธิภาพที่มากขึ้น มีขนาดเล็กลงพร้อมตัวการระบายความร้อนที่เป็นเยี่ยม แซฟไฟร์ Vapor-X cooler ออกวางจำหน่ายครั้งแรกในปี พ.ศ. 2550 ในการ์ดแสดงผลกราฟฟิครุ่น Radeon HD3870 Atomic หลังจากนั้นก็ประสบความสำเร็จเรื่อยมาในการ์ดรุ่น Radeon HD3870 และ HD4870 Toxic เทคโนโลยี Vapor-X Vapor Champer นี้มีพื้นฐานการปฏิบัติแบบเดียวกับเทคโนโลยีฮีทซิงค์ทั่วไป สารลดอุณหภูมิในรูปแบบของเหลวที่ระเหยบนผิวด้านที่ร้อนจะถูกจับตัวกันบนผิวด้านที่เย็น แล้วส่งกลับมาบนผิวด้านที่ร้อนอีกครั้ง ซึ่งกระบวนการถ่ายเทความร้อนนี้จะถูกควบคุมโดยระบบที่เรียกว่า wick system Vapor-X นำระบบทั้งหมดนี้มาอยู่ภายในห้องถ่ายเทความร้อนแผ่นบางๆซึ่งจะถูกนำมาติดตั้งบนผิวของชิฟกราฟฟิค โดยแท้ที่จริงแล้วสารลดอุณหภูมินี้คือน้ำ แต่เพราะห้องถูกถ่ายเทความร้อนด้วยความดันที่ต่ำมากๆทำให้กระบวนการระเหยเกิดขึ้นในอุณหภูมิที่ต่ำกว่าจุดเดือดปกติ ซึ่งความซับซ้อนของตัวตาข่ายที่ถูกจัดให้อยู่ภายในหอควบคุมการถ่ายเทความร้อนนี้จะทำให้การระเหยกลายเป็นไอจากของเหลวที่อยู่ภายในห้องส่งแบบไร้ทิศทาง ซึ่งแตกต่างจากฮีทซิงค์ทั่วๆไป
.
So how does it work?
1. ตัวกำเนิดความร้อนปล่อยความร้อนในตาข่ายทำการระเหย
2. น้ำซึ่งทำหน้าที่เป็นตัวลดอุณหภูมิจะถูกระเหยได้โดยง่ายภายใต้แรงดันที่ต่ำมาก
3. ไอระเหยของน้ำจะถูกถ่ายเทสู่พื้นที่สุญญากาศจนกระทั่ง
4. ไอระเหยถูกจับตัวกันบนผิวตาข่ายด้านที่เย็นจนกลายรูปแบบของเหลว
5. ของเหลวที่เกิดขึ้นจะถูกดูดซึมผ่านตาข่ายนำทางเส้นเล็กๆมากมายกลับไปยังส่วน ตาข่ายทำการระเหยอีกครั้ง
6. กระบวนการทั้งหมดจะกลายเป็นวงจรที่ถูกสร้างและนำกลับมาใช้ใหม่ตลอดไป
.
Patented Complex Wick System at the heart of Vapor-X
เอกสิทธิ์เฉพาะแซฟไฟร์ ซึ่งที่มาของความร้อนนั้นมาจากชิฟกราฟฟิค ดังนั้นหอควบคุมการถ่ายเทความร้อน Vapor-X นี้จะถูกติดตั้งติดผิวของกราฟฟิคโปรเซสเซอร์ซึ่งจะมีประสิทธิภาพที่ดีกว่าฮีทซิงค์ที่ทำจากทองแดงทั่วไปในการถ่ายเทความร้อนเพราะพื้นที่ทั้งหมดจะถ่ายเทความร้อนเท่าๆกันทุกส่วน ต่างจากฮีทซิงค์ทองแดงทั่วไปที่มักจะเป็นในลักษณะของความร้อนหมักหมมที่จะถ่ายเทออกมาแค่บริเวณจุดนั้นๆหรือใกล้เคียง พื้นผิวที่เย็นจะถูกดูแลโดยฮีทซิงค์และการไหลเวียนอากาศตามขวาง ดีไซน์การออกแบบนั้นจะขึ้นอยู่กับรุ่นชิฟกราฟฟิคและชนิดหน่วยความจำที่ใช้ โดยในตัวการ์ดรุ่นแรกๆอย่าง Radeon HD3870 Atomic และรุ่น Toxic นั้น ฮีทซิงค์ขนาดบางและความดังเสียงพัดลมน้อยลงทำให้แซฟไฟร์ได้มอบการ์ดตัวแรกที่มีประสิทธิภาพสูง เสียงพัดลมเบาที่สามารถใส่กับ single PCI Express x16 expansion slot ได้พอดี ประสิทธิภาพการระบายความร้อนด้วยเทคโนโลยีนี้สามารถลดอุณหภูมิชิพกราฟฟิคให้เย็นลงกว่า 7 องศาเซลเซียสและมีเสียงพัดลมที่เบากว่าชุดระบายความร้อนแบบเดิมๆอย่างพัดลม 2 slot ฮีทซิงค์ทั่วไป นอกจากนี้เทคโนโลยี Vapor-X นี้จะสามารถให้ประสิทธิภาพที่ดียิ่งขึ้นด้วยการ overclocking Vapor-X Series แซฟไฟร์ Vapor-X และระบบระบายความร้อนแบบลูกผสมนี้มีประสิทธิภาพที่ดีมาก ทำให้สามารถใช้แรงลมหมุนเวียนต่ำซึ่งนั่นคือการใช้ความเร็วรอบพัดลมที่ต่ำและเกิดเสียงเบากว่าทั่วไป ในสินค้าที่มีประสิทธิภาพสูงอย่างซีรีย์ Toxic นั้น ความเร็วรอบพัดลมถูกควบคุมโดย BIOS ซึ่งสามารถมั่นใจว่าความเร็วพัดลมนั้นต่ำเนื่องจากถูกควบคุมไม่ให้ทำงานหนักมาก แต่ยังคงประสิทธิภาพในการทำงานของกราฟฟิคโปรเซสเซอร์ไว้อย่างดีเยี่ยม ผู้ใช้คอมพิวเตอร์ในปัจจุบันนี้ส่วนใหญ่จะมองหาวิธีที่ช่วยลดความดังเสียงพัดลม ดังนั้นแซฟไฟร์ขอเสนอผลิตภัณฑ์คุณภาพตระกูลใหม่ “Vapor-X” ภายใต้เทคโนโลยี Vapor-X ด้วยกราฟฟิคโปรเซสเซอร์ระดับ High-End ซี่งมุ่งหวังที่จะตอบสนองผู้ใช้ที่ต้องการเสียงที่เบาลงและยังคงความเสถียรแต่ไม่ต้องการจ่ายเงินเพิ่มเพื่อสินค้าประสิทธิภาพสูงด้วยหน่วยความจำพิเศษและ overclock จากโรงงานอย่างในซีรีย์ Toxic ผลิตภัณฑ์คุณภาพตระกูลใหม่ “Vapor-X” พร้อมแล้วที่จะตอบสนองความต้องการของผู้ใช้ทุกท่าน
.